发线上娱乐-光刻机问题消弭,国产7nm芯片研发步入正轨,光刻材料供应商受益

2020-01-09 14:45:15 来源: 网络

发线上娱乐-光刻机问题消弭,国产7nm芯片研发步入正轨,光刻材料供应商受益

发线上娱乐,近日,中芯国际表示与asml之间已解决光刻机的问题,euv技术研发步入正轨。前不久有消息称asml已暂停对中国供应euv光刻机,随后asml公司表示不是停供,而是延期,主要是在准备该国政府的出口申请文本工作。

据了解,荷兰asml公司是全球euv光刻机的唯一供应商,intel、三星、台积电等公司都要依赖它。中芯国际去年也订购了一台euv光刻机用于研究7nm及以下的先进工艺,订单价值超过1.2亿欧元,预计今年底交货,2020年正式安装。

目前国内晶圆厂量产的最先进工艺还是28nm,中芯国际的14nm工艺取得了突破,但目前还没大规模量产,还在客户导入阶段。中芯国际7nm及以下的先进工艺技术研发进入正轨,相关光刻材料合格供应商有望受益。

相关公司方面,据选股宝主题库(xuangubao.cn) 光刻机(胶)板块显示,

南大光电:产品包括光刻胶及配套材料,公司参股公司北京科华开发的248nm光刻胶目前已通过包括中芯国际在内的部分客户的认证。

飞凯材料:上海半导体装备材料产业投资基金入股了公司,公司的产品有直接或间接供应中芯国际和华为。

北方华创:为国内最大的集成电路设备提供商,芯片刻蚀机等设备已进入集成电路主流厂商,客户包括中芯国际、华为海思等。公司与国望光学、科益虹源等光刻机核心部件厂商同为北京国资委旗下企业。

蓝英装备:瑞士子公司ucm ag为asml及其供应商提供极紫外光刻机(euv)的光学系统相关关键部件的清洗设备。

上海新阳:公司用于krf248nm光刻胶配套的光刻机已完成厂内安装开始调试,arf193nm光刻胶配套的光刻机预计12月底到货。

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